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Micron 斥資 1,000 億美元興建紐約超級晶圓廠——美國史上最大半導體設施專攻 AI 記憶體

當全球 AI 軍備競賽從運算晶片延伸至記憶體領域,Micron 在紐約州動工的超級晶圓廠不僅是美國半導體製造史上的里程碑,更標誌着 AI 記憶體供應鏈正在進行一場根本性的地緣重組。這座規模空前的設施,將深刻改變全球 DRAM 與高頻寬記憶體的競爭格局。

2026 年 1 月 16 日,美國記憶體晶片巨頭 Micron Technology 在紐約州奧農達加縣(Onondaga County)正式破土動工,啟動一項總投資高達 1,000 億美元的記憶體製造園區建設計劃。這座超級晶圓廠(megafab)一旦全面建成,將成為美國境內最大的半導體製造設施,同時也是紐約州有史以來最大的民間投資項目。在全球 AI 需求急速膨脹、記憶體供應鏈高度集中於亞洲的背景下,這項投資的戰略意義遠遠超越了商業範疇。

AI 模型的規模正以指數級增長,而每一次模型規模的躍升都意味着對記憶體頻寬和容量的需求成倍增加。無論是訓練階段需要在數千個 GPU 之間高速傳輸的海量參數,還是推理階段需要即時存取的龐大模型權重,DRAM 和高頻寬記憶體(HBM)都是 AI 運算不可或缺的基礎。Micron 此次在美國本土建設超大規模記憶體製造設施,正是對這一時代需求的直接回應。

園區規模:240 萬平方呎無塵室的工程壯舉

Micron 紐約園區的設計規模令人驚嘆。整個園區規劃建設最多 4 座晶圓廠,每座晶圓廠配備約 600,000 平方呎(約 55,740 平方公尺)的無塵室空間,四座廠房合計無塵室面積將達到 240 萬平方呎——這相當於約 42 個標準美式足球場的面積。在全球半導體製造領域,如此集中的無塵室規模幾乎是前所未有的。

要理解這個數字的意義,可以做一個比較:台積電在亞利桑那州的第一座晶圓廠無塵室面積約為 160,000 平方呎,而 Micron 單座廠房的無塵室面積就是其近四倍。Samsung 在德克薩斯州泰勒市的新廠預計無塵室面積約為 600,000 平方呎——僅相當於 Micron 園區的四分之一。

園區預計在建設期及全面營運後的 20 多年間,合計創造約 50,000 個就業機會,包括直接僱員及供應鏈上下游的間接就業。對於奧農達加縣及整個紐約州中部地區而言,這不僅僅是一個半導體項目,而是一場區域經濟轉型的催化劑。

建設時間表:從 2026 到 2045 的二十年藍圖

Micron 為這座超級晶圓廠制定了一個橫跨近二十年的分階段建設計劃,反映出半導體製造設施建設的巨大複雜性和對市場需求的審慎預判。

第一座晶圓廠(Fab 1)的建設工程將從 2026 年底正式展開,預計於 2028 年第二季度完成主體建設。廠房營運最早可在 2029 年第一季度啟動,DRAM 產品的量產出貨則預計在 2030 年實現。僅這第一座廠房的建設成本就預估約為 200 億美元——這個數字本身就已經超過了全球絕大多數半導體項目的總投資額。

後續廠房的建設時間表同樣清晰:Fab 2 預計於 2028 年下半年動工;Fab 3 將在 2033 年下半年啟動建設;Fab 4 則計劃於 2039 年上半年開工。整個園區的全面建成時間預計為 2045 年。這個長達二十年的建設週期看似漫長,但考慮到每座廠房都需要隨着技術演進而配備最先進的製造設備,分階段建設實際上是最為務實的策略。

Micron 紐約超級晶圓廠建設時間表

  • 2026 年 1 月 16 日:正式破土動工
  • Fab 1:2026 年底至 2028 年 Q2 建設;2029 年 Q1 開始營運;2030 年量產 DRAM(投資約 200 億美元)
  • Fab 2:2028 年下半年動工
  • Fab 3:2033 年下半年動工
  • Fab 4:2039 年上半年動工
  • 全面建成:預計 2045 年
  • 設備:採用 Low-NA EUV(每台約 2.35 億美元),未來升級至 High-NA EUV(每台約 4 億美元)

尖端製造設備:EUV 微影技術的巨額投入

先進半導體製造的核心在於微影(lithography)技術,而 Micron 紐約廠房將大量採用業界最先進的極紫外光(EUV)微影設備。第一座廠房將配備由 ASML 製造的 Low-NA(低數值孔徑)EUV 微影機台,每台設備的採購成本約為 2.35 億美元。隨着技術推進,後期廠房將升級至 High-NA(高數值孔徑)EUV 機台,單台價格更是高達約 4 億美元。

這些 EUV 設備是當今世界上最精密的工業機器之一。一台 EUV 微影機台重達約 180 噸,包含超過 10 萬個零組件,需要用數架貨機才能完成運輸。它能夠在矽晶圓上刻畫僅有幾奈米寬度的電路——這相當於在人類頭髮的直徑上並排放置數萬條線路。ASML 是全球唯一有能力生產 EUV 微影設備的公司,這一事實本身就凸顯了半導體供應鏈的高度集中性和脆弱性。

對於記憶體製造而言,EUV 技術的採用是一個相對較新的發展。傳統上,記憶體製造商主要依賴多重曝光(multi-patterning)技術來實現精細線寬,但隨着 DRAM 製程節點推進至 1-alpha(1α)及更先進的世代,EUV 的採用已成為提升良率和降低成本的必要手段。Micron 在新廠從一開始就全面部署 EUV,表明其決心在製程技術上與 Samsung 和 SK Hynix 展開正面競爭。

Micron 2,000 億美元美國擴張計劃的核心

紐約超級晶圓廠是 Micron 更宏大的美國擴張戰略的核心組成部分。公司已經公布了總額高達 2,000 億美元的更廣泛美國投資計劃,涵蓋多個州的多項設施建設。

除了紐約園區之外,Micron 正在愛達荷州博伊西(Boise)——其全球總部所在地——興建新的晶圓廠,同時在維吉尼亞州擴建現有的記憶體封裝設施。此外,公司還在大幅增加 HBM(高頻寬記憶體)封裝產能和研發投入。這些投資的共同目標是將美國生產的 DRAM 佔 Micron 全球產量的比例提升至 40%——這是一個極為雄心勃勃的目標,考慮到目前全球 DRAM 產能絕大部分集中在韓國和中國台灣地區。

Micron 這一戰略轉向的背後有着深層的地緣政治邏輯。當前全球 DRAM 市場超過 90% 的產能由三家公司控制——SK Hynix、Samsung 和 Micron。但在這三家之中,只有 Micron 是美國公司,且其絕大多數先進製造產能位於亞洲。在中美科技博弈持續升溫、供應鏈安全成為各國戰略優先事項的大環境下,在美國本土建設世界級的記憶體製造能力不僅是商業決策,更是國家安全的需要。

「記憶體不僅僅是一種元件——它是 AI 時代的戰略資源。每一個 AI 模型的訓練、每一次推理運算,都離不開高速、大容量的記憶體。誰掌控了先進記憶體的製造,誰就握住了 AI 發展的咽喉。」

政府支持:CHIPS Act 與 GREEN CHIPS 的雙重助力

如此龐大的投資計劃離不開政府的強力支持。在聯邦層面,Micron 已獲得美國《CHIPS 與科學法案》(CHIPS and Science Act)撥出的 64 億美元資金支持。這筆聯邦資金包括直接補貼和優惠貸款,旨在降低 Micron 在美國建廠的成本差距——在美國建設和運營半導體晶圓廠的成本通常比亞洲高出 30% 至 50%。

在州政府層面,紐約州為 Micron 提供了 GREEN CHIPS 激勵計劃,總額達 55 億美元。這是紐約州有史以來為單一項目提供的最大規模經濟激勵措施,涵蓋稅收減免、基礎設施建設補助、勞動力培訓資金等多個方面。GREEN CHIPS 計劃的設計也體現了對環保的關注,要求 Micron 在建設和運營過程中達到特定的環境和可持續發展標準。

聯邦和州政府合計約 120 億美元的公共資金投入,佔項目 1,000 億美元總投資的約 12%。這個比例看似不高,但對於降低項目風險、加速建設啟動具有關鍵意義。更重要的是,政府的背書為 Micron 從資本市場募集其餘資金提供了強大的信心支撐。CHIPS Act 的通過和執行,正在從根本上改變美國半導體製造的經濟邏輯——將原本因成本過高而不切實際的本土製造變為可行的商業投資。

AI 記憶體市場:HBM4 與 DRAM 的爆發性需求

Micron 大舉投資記憶體製造的時機恰逢 AI 記憶體市場進入爆發性增長期。在 DRAM 市場方面,受 AI 數據中心需求驅動,合約價格在 2026 年第一季度出現了超過 50% 的季度環比漲幅——這是近年來最為劇烈的價格上漲之一,反映出 AI 運算對高效能 DRAM 需求的急迫性。

在高頻寬記憶體(HBM)領域,競爭更為白熱化。HBM 是將多層 DRAM 晶片垂直堆疊並通過矽穿孔(TSV)技術互聯的高階記憶體產品,是 NVIDIA H100、H200、B200 等 AI 加速器的核心組件。目前 SK Hynix 在 HBM 市場佔據主導地位,但 Micron 正在迅速追趕。公司已明確表示,目標是在 2026 年底前取得 HBM4 市場 30% 的份額。

HBM4 是下一代高頻寬記憶體技術,相比當前的 HBM3E 在頻寬和能效上都有顯著提升。Google Cloud 執行長 Thomas Kurian 和 AMD 執行長蘇姿丰(Lisa Su)都曾公開為 Micron 的 HBM 技術背書——這在半導體行業中是極為少見的,表明下游客戶對 Micron 記憶體產品的高度認可和對供應多元化的迫切需求。

AI 記憶體市場關鍵數據

  • DRAM 合約價格:2026 年 Q1 季度環比漲幅超過 50%
  • Micron HBM4 目標:2026 年底前取得 30% 市場份額
  • DRAM 市場集中度:SK Hynix、Samsung、Micron 三家控制超過 90% 全球產能
  • 產業背書:Google Cloud CEO Thomas Kurian 及 AMD CEO 蘇姿丰公開支持
  • Micron 美國產量目標:DRAM 產量的 40% 在美國生產

AI 訓練和推理工作負載對記憶體的需求特性與傳統運算截然不同。大型語言模型(LLM)的訓練過程中,模型參數、梯度和優化器狀態需要分佈在數百甚至數千個加速器的記憶體中,而這些加速器之間需要通過 HBM 實現超高頻寬的數據交換。以一個擁有數千億參數的模型為例,僅模型權重本身就需要數百 GB 的記憶體容量,加上訓練過程中的中間狀態,總記憶體需求可輕易達到數十 TB。推理階段的需求同樣龐大——隨着越來越多的企業部署 AI 服務,推理工作負載的總記憶體消耗正在超越訓練。

全球 DRAM 寡頭格局與供應鏈安全

全球 DRAM 市場的寡頭壟斷格局是理解 Micron 紐約投資戰略意義的關鍵背景。SK Hynix、Samsung 和 Micron 三家公司合計控制着全球超過 90% 的 DRAM 生產能力。這種高度集中的市場結構意味着任何一家公司的產能波動——無論是因為自然災害、地緣政治事件還是技術問題——都可能對全球電子產業造成嚴重衝擊。

更令人擔憂的是地理集中度。在 Micron 紐約廠建成之前,全球絕大部分先進 DRAM 產能位於韓國和中國台灣地區。在一個充滿地緣政治不確定性的時代,這種地理集中度構成了顯著的供應鏈風險。2022 年全球晶片短缺的教訓仍歷歷在目——當時供應鏈的脆弱性導致從汽車到消費電子的廣泛產品短缺,經濟損失高達數千億美元。

Micron 在美國本土建設大規模記憶體製造能力,是全球半導體供應鏈重組的重要一步。這不僅為美國 AI 產業提供了更可靠的記憶體供應來源,也為全球供應鏈增加了地理多元性。對於 NVIDIA、Google、AMD 等 AI 晶片和系統設計公司而言,在本國或盟友國家擁有可靠的記憶體供應源是確保產品供應穩定性的關鍵因素。

同時,中國在記憶體領域的追趕也是推動這一投資的重要因素。儘管美國對中國實施了嚴格的半導體設備出口管制,但中國的長鑫存儲(CXMT)等公司仍在持續推進本土 DRAM 製造能力的建設。雖然在先進製程上仍有顯著差距,但中國在成熟製程 DRAM 領域的產能擴張正在改變市場動態。Micron 加大美國本土投資,部分也是對這一競爭壓力的回應。

對香港及大灣區的影響

Micron 紐約超級晶圓廠的建設,對香港及大灣區的科技生態系統有着多層次的影響。

首先,從供應鏈角度看,全球記憶體製造版圖的重組將直接影響香港作為電子元件貿易樞紐的角色。香港長期以來是全球半導體及電子元件的重要轉口貿易中心,但隨着美國推動半導體供應鏈本土化,部分貿易流向可能發生變化。特別是在 AI 記憶體這一高價值領域,美國客戶可能更傾向於直接從本土廠房採購,減少對跨太平洋供應鏈的依賴。

其次,對於香港的科技企業和 AI 研究機構而言,Micron 擴大美國產能可能在中短期內對全球 DRAM 和 HBM 供應產生正面影響。更多的製造產能意味着更穩定的供應和更可預測的價格。這對於依賴 AI 硬件的香港初創企業和研究機構來說是好消息——它們可能更容易獲取所需的 AI 加速器和記憶體模組。

第三,香港的金融市場也應關注這一趨勢。Micron 的 1,000 億美元投資只是全球半導體資本支出浪潮的一部分。根據行業預測,未來十年全球半導體製造的資本投入將超過 3 萬億美元。作為國際金融中心,香港在半導體項目融資、相關企業 IPO 和債券發行方面可以發揮獨特作用。

此外,大灣區本身也是全球最大的電子製造和消費市場之一。深圳及周邊地區聚集了大量使用 DRAM 和 HBM 的下游企業,從手機製造商到 AI 伺服器組裝商。全球記憶體產能的擴張和技術的演進,將直接影響這些企業的供應鏈策略和成本結構。香港可以利用其「超級聯繫人」角色,在美國半導體企業與大灣區下游客戶之間搭建橋梁。

最後,Micron 投資引發的更廣泛思考是:在半導體製造回流美國的大趨勢下,亞洲——包括香港和大灣區——如何重新定位自身在全球半導體價值鏈中的角色?純粹的製造環節可能逐漸分散至更多地區,但設計、應用開發、系統整合和金融服務等高附加值環節仍然是香港和大灣區可以深耕的領域。

「全球半導體產業正在經歷二戰以來最大規模的地理重組。每一個主要經濟體都在重新評估自己在晶片供應鏈中的位置。這不僅僅是關於工廠建在哪裏的問題,而是關於誰能在 AI 時代掌握技術主權的根本性問題。」

本文要點總結

  • Micron 於 2026 年 1 月 16 日在紐約州奧農達加縣破土動工,啟動耗資 1,000 億美元的超級晶圓廠建設——美國最大半導體設施,紐約州史上最大民間投資
  • 園區規劃 4 座晶圓廠,每座 60 萬平方呎無塵室,合計 240 萬平方呎,建設週期橫跨 2026 至 2045 年
  • 第一座廠房投資約 200 億美元,採用 Low-NA EUV 設備(每台 2.35 億美元),後期升級至 High-NA EUV(每台 4 億美元)
  • 項目獲聯邦 CHIPS Act 64 億美元及紐約州 GREEN CHIPS 55 億美元共約 120 億美元公共資金支持
  • 為 Micron 2,000 億美元美國擴張計劃核心,目標 40% DRAM 在美國生產,預計創造 50,000 個就業機會
  • 2026 年 Q1 DRAM 合約價格季度環比漲幅超 50%,Micron 目標 2026 年底前取得 HBM4 市場 30% 份額
  • 全球 DRAM 市場由 SK Hynix、Samsung、Micron 三家壟斷超 90%,地緣政治推動供應鏈重組
  • 香港可在半導體融資、大灣區供應鏈橋接及 AI 記憶體供應穩定化方面把握機遇